专利技术转让---离子束纳米薄膜镀膜机
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专利技术转让---离子束纳米薄膜镀膜机
2004/05/27  
    薄膜材料科学研究、薄膜制备技术、薄膜表面微加工技术是当代微细加工技术、微机械加工技术的重要基础,已经渗透到当代科学技术的各个领域,成为知识密集、技术密集、资金密集的高科技新兴薄膜产业。80-90年代,微米薄膜制备和表面微结构加工技术的发展,推动了大规模集成电路、光集成器件、薄膜集成电路、光电子-磁光电子器件、薄膜传感器和高质量的光学薄膜等技术的进步。薄膜技术作为一个基础产业,为今天信息产业的飞速发展做出了积极贡献。21世纪,纳米薄膜的制备及其应用技术的发展,将为这些元器件发展开辟新天地。目前薄膜制备的主要方法有物理汽相淀积法(PVD)、化学汽相淀积(CVD)和束流技术淀积法等,这些方法由于其工艺、设备的限制不能用于制造当前发展迅速的高质量无杂质、均匀致密、内应力小、附着力强的纳米膜,更不能用于制造我国急需的原位多元可控组分纳米膜和多层结构纳米膜。本项目研究目的就是要提供一种满足当前新器件发展急需的纳米膜淀积设备,该设备吸收国内外同类设备的优点,改进创新。它采用双离子束共轰击原位动态混合和原位粒子改性技术,能制备各种高品质复合纳米膜,为薄膜材料科学研究提供新技术,新工艺。该项目研究成功,对推动我国薄膜科学技术的进步,提升薄膜产业的技术水平,使我国薄膜材料跻身世界先进行列均具有十分重要的现实意义。
本项目的研制成功,将获得制备纳米膜的先进工艺技术与设备。产品将填补国内空白,整体性能达到国际先进水平。该设备的投产,将大大减少我国甚低能、大口径、大束流纳米膜淀积设备的进口量,为我国节省大量外汇。
本项目投资300万元,第一年的年产量可达15台,年产值达1050万元,年利税达420万元。本项目第二年将进一步投入资金200万元,达到正常年产量40台,产值2800万元,年利税1340万元。
本项目的生产过程涉及众多领域,需要相关生产厂家协作,零部件数十种,其推广应用将带动相关领域的发展,如:集成电路、机械、电器、电子、包装等行业,每年可创数千万元的产值,上百个就业岗位,促进国民经济的发展。
该项目的投产,将大力推动我国集成电路、薄膜传感器、薄膜光电器件等相关薄膜产业的发展,为我国薄膜产业再上一个台阶打下坚实基础,为我国薄膜事业走向世界做出积极贡献。产品能替代进口并逐步出口创汇,对促进当地高新技术产业的发展,加强地方财政实力,为国家节省外汇,增强出口创汇能力,均能起到积极作用。
专利种类: 实用新型
法律状况: 已授权
专利号: 022240780
技术报价: 200万元
转让方式: 独占许可 技术入股 专利权转让
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